半導体・液晶パネル・太陽電池などの産業ではすべて真空を中心にものづくりが行われている。

近年はデバイスの高性能化・微細化に伴ない排気系に対する負荷は増々大きくなっている。

またプロセスガス排気系のトラブル解決は製造装置の安定稼働のみならず、デバイスの品質・コストに影響を及ぼす大きな意味を持っている。

ここにデバイスメーカーに加えてプロセスガス排気系に係わる各メーカーの有志が集って研究会を発足させる。

【　研究会の目指すところ　】

　・プロセスガス排気系に係わる諸問題の対策技術の向上を目指す。

　・プロセスガス排気系という技術分野の重要性を広報する。

　・会員相互の製品紹介を通じて親睦をはかる。

第1条（名称）

　本会の名称は「半導体・液晶プロセスガス排気系研究会」

略称をセシル（SESIL : Semiconductor Exhaust System Investigation Laboratory)とする。　

第2条（目的）

　・プロセスガス排気系に係わる諸問題の対策技術の向上を目指す。

　・プロセスガス排気系という技術分野の重要性を広報する。

　・会員相互の製品紹介を通じて親睦をはかる。

第3条（事業および運営）

　・年3回の研究会を実施する。

　・必要に応じて会費を徴収し、年1回会計報告を行う。

　・不定期に会報を発行する。

第4条（会員および組織）

　1、会員　本会の会員は真空排気系に係わる個人を対象とする。

　　　　　 会員の入退会は総会の承認を必要とする。

　2、組織

　　　会長（代表）　1名　　会員の互選で選ばれ再任は妨げない。

　　　世話人　　　　1名　　会員の互選で選ばれ再任は妨げない。

　　　総会　　　　　　　　　研究会を総会に兼ねて開催する。

附則

　1、本会則は総会によって承認された日から施行する。

　2、本会則は必要に応じて修正・追加・変更を行うことができる。

2019年7月18日　制定

半導体・液晶プロセスガス排気系研究会（SESIL)では、

◆排気系に問題意識を持っている方

◆本研究会の趣旨に賛同できる方

を対象に本会員を募集しています。

また、会員に準ずる個人を対象にサポーターとしての登録・参画も可能です。

半導体・液晶プロセスガス排気系研究会（SESIL)に入会を希望される方は、下記フォームに必要事項を記入し送信してください。

研究会事務局より、折り返し入会確認メールを差し上げます。

なお、入会前のご質問などは、お問い合せフォームをご利用ください。

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