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◆新着情報

7月11日 半導体・液晶プロセスガス排気系研究会(SESIL)のホームページを開設しました。


半導体・液晶プロセスガス排気系研究会

SESIL : Semiconductor Exhaust System Investigation Laboratory


研究会の目的


今、私たちの身の回りでは、自動運転、AI,ロボット、EC取引、巨大データーセンターなどの出現で暮らし方が大きく変わってきており、この変化はこの先とどまることはないと言われています。この進化を支えているのが半導体をはじめとした電子デバイスです。

半導体工場では、真空装置がその中核を担っていますが、そこに連結しているのが真空排気系です。真空排気系は、真空ポンプ、除害装置をはじめ多種多様な設備で構成されていて「縁の下の力持ち」的存在です。

また、真空装置から排出される粉体を同伴した排気による負荷も年々増大しています。真空排気系のトラブル解消が半導体製造装置の安定稼働のみならず、電子デバイスの品質、コスト改善の大きなカギになっています。

 

本研究会では、電子デバイスメーカーに加えて、プロセスガス排気系に係わる各メーカーが集り、排気系に関する諸問題の解決を目指す、ことを目的としています。

 

研究会について


設立にあたって

お困りごとについて


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