NEW! 2024年1月 会員向けSESILニュースレター第8版が発行されました。
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◆新着情報◆
2022年11月 会員向けSESILニュースレター第8版が発行されました。
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2022年7月 会員向けSESILニュースレター第7版が発行されました。今後とも四半期ごとに発行する予定です。
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2022年4月 会員向けSESILニュースレター第6版が発行されました。今後とも四半期ごとに発行する予定です。
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2022年1月 会員向けSESILニュースレター第5版が1月19日以降に発行されます。今後とも四半期ごとに発行する予定です。
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2021年10月 会員向けSESILニュースレター第4版が10月6日に発行されます。今後とも四半期ごとに発行する予定です。
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2021年7月 会員向けSESILニュースレター第3版が7月末に発行されます。今後とも四半期ごとに発行する予定です。
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2021年4月 会員向けSESILニュースレター第2版が4月末に発行されました。今後とも四半期ごとに発行する予定です。
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2021年6月 電子デバイス産業新聞（6月26日発行）に半導体・液晶プロセスガス排気系研究会（SESIL)の紹介広告が掲載されました。
2019年7月11日 半導体・液晶プロセスガス排気系研究会（SESIL)のホームページを開設しました。
半導体・液晶プロセスガス排気系研究会
SESIL : Semiconductor Exhaust System Investigation Laboratory
研究会の目的
今、私たちの身の回りでは、自動運転、ＡＩ，ロボット、ＥＣ取引、巨大データーセンターなどの出現で暮らし方が大きく変わってきており、この変化はこの先とどまることはないと言われています。この進化を支えているのが半導体をはじめとした電子デバイスです。
半導体工場では、真空装置がその中核を担っていますが、そこに連結しているのが真空排気系です。真空排気系は、真空ポンプ、除害装置をはじめ多種多様な設備で構成されていて「縁の下の力持ち」的存在です。
また、真空装置から排出される粉体を同伴した排気による負荷も年々増大しています。真空排気系のトラブル解消が半導体製造装置の安定稼働のみならず、電子デバイスの品質、コスト改善の大きなカギになっています。
本研究会では、電子デバイスメーカーに加えて、プロセスガス排気系に係わる各メーカーが集り、排気系に関する諸問題の解決を目指す、ことを目的としています。
